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凸版印刷|ニュースリリース.

〜 薄型で曲げられる次世代ディスプレイの実現をめざして〜 透明アモルファス酸化物半導体を用い、低温での塗布型薄膜トランジスタ(TFT)試作に成功

凸版印刷株式会社は、12月14日、透明アモルファス酸化物半導体を用い、製造工程を低温に抑えた 塗布型薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:TFT)を試作、電気泳動方式のE Ink電子ペーパーを駆動することに成功したと発表した。酸化物半導体層を印刷法で塗布し、その他の層は、現在一般的なTFT(アモルファスシリコン)と同様の製造工程で成形した。

材料メーカーであるエボニック インダストリーAGの戦略的研究開発部署の「クレアビス テクノロジーズ&イノベーション」と共同で透明アモルファス酸化物半導体の素材を改良し、酸化物半導体を塗布する工程における湿度温度条件を管理して、TFT製作工程における最高温度を従来の研究成果より100℃以上低い温度(270℃)に抑え試作に成功した。これにより従来のガラス素材ではなく、柔軟性がある樹脂(耐熱フィルム)の使用が可能となった。生産設備を簡素化できるため低コストでの製造が可能となるという。

今後、凸版印刷では、薄型、軽量でフレキシブルなディスプレイの実用化を目標に、TFTの研究開発を強化する。ディスプ レイ関連事業で協業関係にある株式会社カシオ計算機と融合・連携を図り、製造プロセスの早期確立を目指すとしている。

Displaybankによればフレキシブル電子ペーパー市場は2017年には6000億円近い規模になると予測されているという。

【試作品の仕様】
・ディスプレイサイズ : 対角2インチ(画素数80×60)
・TFT基材 : ガラス
・半導体材料 : 透明アモルファス酸化物半導体
・特性 :
ガラス基材上に作製されたTFTは移動度0.5cm2/Vs以上、
オン・オフ比は10^5以上(※一般的なアモルファスシリコンTFTと同等の特性)
・TFT作製方式:
アモルファス酸化物半導体膜をスピンコート塗布で成膜し、フォトリソ法でパターニング
その他、TFTを構成するゲート電極、ソース・ドレイン電極,ゲート絶縁膜層などは通常の製造工程(真空成膜などによる成膜後にフォトリソ法でパターニング)

透明導電膜の技術

出版社:オーム社( 2006-12 )

定価:¥ 5,985

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単行本 ( 338 ページ )

ISBN-10 : 4274203441

ISBN-13 : 9784274203442